金融界2025年7月24日音讯，国家知识产权局信息数据显现，拓荆科技（上海）有限公司获得一项名为“一种ALD隔膜阀和电磁阀衔接结构及其薄膜堆积设备”的专利，授权公告号 CN223134578U，请求日期为2024年08月。
专利摘要显现，本实用新型公开了一种ALD隔膜阀和电磁阀衔接结构，其包含:ALD隔膜阀，ALD隔膜阀具有榜首衔接面，ALD的进气通道延伸至榜首衔接面上；电磁阀，电磁阀具有第二衔接面，电磁阀的出气通道延伸至第二衔接面上；榜首衔接面密封抵接于第二衔接面，且进气通道与出气通道对位联通。其经过将电磁阀与ALD隔膜阀直接对位衔接，在对接面设置密封圈，最大极限下降了电磁阀与ALD隔膜阀的气路长度，缩短了呼应时刻；一起在对接面设置若干呈圆形部分的衔接孔，经过衔接件将二者衔接固定，依据本身的需求能调整电磁阀与ALD隔膜阀的对位视点，以防止多个隔膜阀集成时彼此干与，其改善结构相对比较简单、广泛完成。
天眼查资料显现，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，坐落上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。经过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参加招投标项目20次，产业线条，此外企业还具有行政许可29个。
